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东京大学公布世界首张钻石表面原子级高清图开启钻石微观研究

近日,东京大学研究生院新领域创成科学研究科的杉本宜昭教授、张润楠博士研究生等组成的研究团队,携手东京大学物性研究所的尾崎泰助教授,以及日本产业技术综合研究所(产综研)先进功率电子研究中心的小仓政彦主任研究员,取得了一项突破性成果 —— 利用原子间力显微镜(AFM),成功开发出能够在原子级别观察金刚石(钻石)表面碳原子排列的技术,首次实现了对钻石表面单个碳原子的可视化,为原子级别分析钻石材料开辟了全新道路。相关研究成果已于 1 月 8 日在线发表在材料与微器件国际期刊《Nano Letters》上。

钻石,因其高载流子迁移率、高热导率和高绝缘击穿电场等卓越特性,在电力和量子器件等领域广泛应用,被视作终极半导体材料。然而,钻石薄膜表面常存在空位等原子级缺陷,严重影响器件性能。故而,在原子尺度观测钻石表面、明晰其微观结构,对提升器件性能至关重要。此前,虽有多种解析原子级别结构的显微技术,但受钻石低导电性及表面碳原子高密度排列等因素制约,扫描隧道显微镜(STM)等方法均未能实现对钻石表面单个碳原子的可视化。

东京大学研究团队对杉本教授 2007 年提出的硅表面元素分辨技术加以改进,使其适用于钻石表面。随后,借助在超高真空环境下运行的 AFM 与活性硅探针,实现了这一技术突破。研究团队采用产综研通过等离子体化学气相沉积(CVD)技术,精心制备出的表面原子级别平坦的钻石(001)面作为样品。该钻石表面碳原子成对排列,间距仅 1.39 埃(1 埃 = 10 亿分之一米),此前难以实现单个碳原子的可视化。此次,通过将活性硅探针与表面距离拉近至数埃,成功观测到单个碳原子,并捕捉到与钻石薄膜生长和器件性能相关的空位等原子级缺陷。

为深入探究钻石表面单个碳原子的可视化机制,研究团队利用东京大学物性研究所的 OpenMX 开展第一性原理计算,证实了探针尖端硅原子与钻石表面碳原子间形成化学键的可能性,且成功再现实验中硅探针模型接近钻石表面时检测到的碳原子信号。

这一成果意义重大,为原子级别分析钻石表面提供新途径,有助于揭示钻石薄膜生长机制、提升钻石器件性能。例如,通过分析不同条件下制备的钻石薄膜,可明确制备原子级平坦且洁净钻石薄膜的条件;研究团队开发的单原子元素识别方法,还能用于分析钻石表面的掺杂剂和杂质原子分布,助力评估利用缺陷的量子器件并探索新功能,在未来的半导体和量子技术发展中,有望发挥关键作用,推动相关领域迈向新高度。

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